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电子级多晶硅生产过程中的除杂技术

国民经济分类:新材料

类型详情:技术转让

需求类型:技术需求企业名称:

所在地区:交易方式:转让,普通许可,独占许可,排他许可

价格:50000联系人:孙惠龙

联系电话:18957023468联系邮箱:kek@ige-live.com

遇到技术难题内容:

电子级多晶硅生产过程中除碳技术,除硼、磷杂质技术和除微量金属杂质技术,微量金属杂质包括铝、锑、砷、镓、铁、铬、镍、铜、锌。主要反应气体为高纯硅烷和高纯氢气,还原的多晶硅目标技术指标为:11个N,碳含量小于80ppba,基磷、基硼电阻率高于600-6000ohmcm。体金属总量小于2ppbw。

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